, APA/dpa-AFX

Aktien Frankfurt: Dax wieder unter Druck nach Kursrutsch in Asien

Die jüngste Erholung erweist sich am Freitag am deutschen Aktienmarkt als Strohfeuer. Nach teils deutlichen Kursverlusten in Asien rutschte der Dax am Nachmittag um 1,2 Prozent ab unter seine 21-Tage-Linie. Mit 24.693 Punkten näherte er sich seinem Wochentief vom Mittwoch. Die zeitweise wieder erreichte Marke von 25.000 Punkten blieb am Vortag für den Leitindex erneut eine zu hohe Hürde. Auf Wochensicht liegt der Leitindex jetzt wieder klar in der Verlustzone.

Für den MDax ging es am letzten Handelstag der Woche um 1,5 Prozent auf 31.509 Zähler bergab, während der Eurozonen-Leitindex EuroStoxx zuletzt um 0,9 Prozent fiel. In Asien hatten die Anleger nach den gefeierten Resultaten des US-Konzerns Micron bei Tech-Werten gleich wieder Gewinne mitgenommen - vor allem in Tokio und Seoul. In New York bahnt sich an der Nasdaq-Börse auch ein schwächerer Start an.

Marktbeobachtern zufolge können die Anleger ihre Bedenken über die Bewertung von KI-Profiteuren nicht ablegen. Der Marktexperte Jürgen Molnar verwies als Stimmungsbremse auf Berichte über eine mögliche Verschiebung des OpenAI-Börsengangs und Preissorgen wegen des KI-Booms. Anleger zeigten sich erschrocken von den Preiserhöhungen, die Apple am Vortag wegen steigender Kosten für Speicherbausteine bekannt gegeben hatte.

Im Chipbereich erfasste die erneute Abwärtsbewegung viele deutsche Aktien, darunter den Halbleiterhersteller Infineon mit einem Abschlag von 3,6 Prozent. Für die Branchenausrüster Aixtron , Suss und PVA Tepla sowie den Waferhersteller Siltronic ging es zuletzt um bis zu 4,4 Prozent bergab. Die Abwärtsbewegung erfasste mit Siemens Energy und Hochtief auch KI-Profiteure aus anderen Branchen.

Etwas deutlicher erwischte es mit 6,7 Prozent Minus die Zalando -Aktien. Die Finanzaufsichtsbehörde Bafin hat bei dem Modehändler eine Prüfung des Konzernabschlusses eingeleitet wegen Anhaltspunkten, dass gegen Rechnungslegungsvorschriften verstoßen wurde. Eine Stellungnahme, dass es sich "um einen rein formellen, aber materiell unwesentlichen Aspekt in den Anhangsangaben" handele, sorgte im Verlauf für etwas Entlastung.

Im Rüstungssegment erholte sich Renk vom jüngsten Kursrutsch, der im Zuge eines verlorenen Rheinmetall -Großauftrags weite Teile der Branche erfasst hatte. Die US-Regierung gab am Vorabend den Vertragsabschluss für einen Auftrag im Wert von 691 Millionen US-Dollar bekannt. Mit einem Plus von 3,4 Prozent hob sich Renk positiv ab von den sonst schwachen Rüstungswerten.

Evonik fiel in der Chemiebranche mit einem Anstieg um 0,3 Prozent leicht positiv auf. Der Spezialchemiekonzern Evonik hat seine Prognose für 2026 nach einer guten Entwicklung im zweiten Quartal angehoben - auf ein Niveau über dem Konsens, stellte die Jefferies-Analystin Helena Xu fest.

Einen Bogen machen die Anleger weiter um Autowerte. VW wurden zwar zeitweise von einem Medienbericht über noch weitreichendere Umstrukturierungen gestützt, zuletzt tauchten aber auch die Titel der Wolfsburger mit 1,3 Prozent ins Minus ab. Dem "Manager Magazin" zufolge könnten in den kommenden Jahren bis zu 100.000 Stellen wegfallen und vier Werke geschlossen werden.

Die Bayer-Aktien verteidigten ihren Vortagskurssprung wegen eines wichtigen Erfolgs in den Glyphosat-Rechtsstreitigkeiten weitgehend. Analyst James Quigley von Goldman Sachs sieht mit der Entscheidung des Obersten Gerichts in den USA einen großen Schritt, um eine Dekade der Rechtsrisiken im Zusammenhang mit dem Unkrautvernichter zu beenden./tih/jha/

 ISIN  DE0008469008  DE0008467416

AXC0159 2026-06-26/14:50

Relevante Links: Bayer AG, Evonik Industries AG, Apple Inc., Süss MicroTec SE, Siltronic AG, PVA TePla AG, RENK GROUP AG INH O.N., Volkswagen AG, Micron Technology Inc., Siemens Energy AG, Infineon Technologies AG, Zalando SE, Rheinmetall AG, Aixtron SE, Hochtief AG

Copyright APA/dpa-AFX. Alle Rechte vorbehalten. Weiterverbreitung, Wiederveröffentlichung oder dauerhafte Speicherung ohne ausdrückliche vorherige Zustimmung von APA/dpa-AFX ist nicht gestattet.